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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Dry etched sio2 mask for hgcdte etching process 期刊论文 Journal of electronic materials, 2016, 卷号: 45, 期号: 9, 页码: 4705-4710 作者:  Chen, Y. Y.;  Ye, Z. H.;  Sun, C. H.;  Deng, L. G.;  Zhang, S. 收藏  |  浏览/下载：27/0  |  提交时间：2019/05/09 Sio2 mask  Auto-stopping point  Hgcdte  Icp etching