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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Double-layer resist method to improve descum result when removing negative photoresist 期刊论文 MICRO & NANO LETTERS, 2019, 卷号: 14, 页码: 694-697 作者:   收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2019/12/02 photoresists  viscosity  etching  negative photoresist scum  low viscosity positive photoresist  AZ703  double-layer resist method  optimal retracting distance  bottom layer resist  top layer resist  top layer contact  size 8  0 mum  size 1  10 mum   利用双层胶方法去除负性光刻胶残胶效果研究 期刊论文 机电技术, 2018, 页码: 78-82 作者:  黎晨;  王秋森;  王兴;  王上飞;  邹赫麟 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2019/12/02 残胶  AZ703  粘度  厚度  缩进距离   An Innovative Low-Cost Photomask Fabrication Technique 期刊论文 JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY, 2016, 卷号: 16, 页码: 9751-9755 作者:  Yin, Zhifu;  Sun, Lei;  Zou, Helin 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/09 Optical Lithography  Low Cost Photomask Fabrication  AZ703 Photoresist