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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 一种螺旋波等离子体增强化学气相沉积装置 专利 申请日期: 2010-01-01, 公开日期: 2010-08-18 作者:  于威[1];  路万兵[2];  傅广生[3];  刘丽辉[4];  王保柱[5] 收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2019/12/21 HWP-CVD氮化硅薄膜的结构和光学特性 期刊论文 无机材料学报, 2004, 卷号: 19, 期号: 4, 页码: 907-911 作者:  Wu, W[1];  Hou, HH[2];  He, J[3];  Wang, HY[4];  Fu, GS[5] 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/31 氮化硅薄膜  光学特性  螺旋波等离子体增强化学气相沉积   螺旋波等离子体增强化学气相沉积氮化硅薄膜 期刊论文 物理学报, 2003, 卷号: 52, 期号: 3, 页码: 687-691 作者:  Yu, W[1];  Liu, LH[2];  Hou, HH[3];  Ding, XC[4];  Han, L[5] 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/31 螺旋波等离子体  化学气相沉积  氮化硅薄膜