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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 双轴式研磨抛光中抛光盘相对位置对去除量的影响研究 期刊论文 光学技术, 2013, 期号: 5, 页码: 408-412 作者:  张杨;  李秀龙;  徐清兰;  张蓉竹 收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2016/11/22 平面研磨  去除函数  抛光盘摆幅  偏心距  去除量   一种轴对称非球面修带装置 (实用新型) 专利 专利类型: 实用新型, 申请日期: 2005-01-05, 公开日期: 2005-01-05 谢京江; 宋淑梅; 陈亚 收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2012/08/29 轴对称非球面修带机构 (发明) 专利 专利类型: 发明专利, 申请日期: 2004-11-17, 公开日期: 2012-08-29 谢京江; 宋淑梅; 陈亚 收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2012/08/29