×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
CORC
首页
科研机构
检索
知识图谱
申请加入
托管服务
登录
注册
在结果中检索
科研机构
海洋研究所 [3]
内容类型
专利 [3]
发表日期
2014 [1]
2012 [1]
2011 [1]
×
知识图谱
CORC
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共3条,第1-3条
帮助
限定条件
内容类型:专利
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
作者升序
作者降序
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
一种氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料及其制备和应用
专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201210323199.2, 申请日期: 2014-03-26, 公开日期: 2014-03-26
作者:
王毅
收藏
  |  
浏览/下载:31/0
  |  
提交时间:2014/08/04
一种氧化石墨烯/水滑石复合抗菌薄膜材料
其特征在于:以质量比为1~4∶1的氧化石墨烯溶液和青霉素阴离子插层水滑石胶体溶液的混合溶液为原料
经溶液浇铸即得氧化石墨烯/水滑石抗菌纳米复合薄膜材料。
一种缓释型青霉素阴离子插层水滑石材料及其制备和应用
专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201110290535.3, 申请日期: 2012-06-20, 公开日期: 2012-06-20
作者:
王毅
收藏
  |  
浏览/下载:34/0
  |  
提交时间:2014/08/04
一种缓释型青霉素阴离子插层水滑石材料
M3+为Al3+
M2+/M3+的摩尔比为1.6~4.5
0.2≤x≤0.4。
其特征在于:所述水滑石材料化学组成通式为[M2+1?xM3+x(OH)2]x+(C16H17N2O4S?)x·nH2O
Cr3+
M2+为Mg2+
Fe3+
Zn2+
V3+
Ni2+
Co3+
Fe2+或Mn2+的二价金属离子
Ga3+或Ti3+的三价金属离子
一种缓释型苯甲酸根阴离子插层水滑石碳钢防腐蚀材料及其制备和应用
专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201110041730.2, 申请日期: 2011-08-03, 公开日期: 2011-08-03
作者:
王毅
收藏
  |  
浏览/下载:28/0
  |  
提交时间:2014/08/04
一种缓释型苯甲酸根阴离子插层水滑石碳钢防腐蚀材料
M2+/M3+的摩尔比为1.6~4.5
0.2≤x≤0.4。
其特征在于:所述防腐蚀材料化学组成通式为[M2+1?xM3+x(OH)2]x+(C6H5COO?)x·nH2O
M2+代表二价金属离子Mg2+
Zn2+
Ni2+
Fe2+
Mn2+中的任何一种
M3+代表三价金属离子Al3+
Cr3+
Fe3+
V3+
Co3+
Ga3+
Ti3+中的任何一种
©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by
CSpace