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科研机构
上海光学精密机械研究... [1]
内容类型
期刊论文 [1]
发表日期
2005 [1]
学科主题
光学薄膜 [1]
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学科主题:光学薄膜
内容类型:期刊论文
专题:上海光学精密机械研究所
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ZrO2/SiO2多层膜中膜厚组合周期数及基底材料对残余应力的影响
期刊论文
物理学报, 2005, 卷号: 54, 期号: 7, 页码: 3312, 3316
邵淑英
;
范正修
;
邵建达
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浏览/下载:927/173
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提交时间:2009/09/22
残余应力
ZrO2/SiO2 multilayers
SiO2
residual stress
ZrO2
periods of repeating thickness
多层膜
周期数
组合
膜厚
基底材料
X射线衍射技术
玻璃基底
电子束蒸发
光学干涉仪
应力值
沉积条件
曲率半径
测量分析
石英基底
变化趋势
结构应变
结晶程度
相互作用
折射率
熔石英
压应力
微结构
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