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期刊论文 [7]
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2020 [7]
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发表日期:2020
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Improvement of GaN plasma etching uniformity by optimizing the coil electrode with plasma simulation and experimental validation
期刊论文
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2020, 卷号: 400
作者:
Xiao, Dezhi
;
Ruan, Qingdong
;
Liu, Liangliang
;
Shen, Jie
;
Cheng, Cheng
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浏览/下载:28/0
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提交时间:2020/11/26
GaN
Plasma etching
Inductively-coupled plasma
Field coupling
Uniformity
Plasma simulation
Modelling of nanometer scale dust grains in tokamak
期刊论文
CONTRIBUTIONS TO PLASMA PHYSICS, 2020, 卷号: 60
作者:
Liu, Zhuang
;
Xiao, Xiaotao
;
Xu, Xueqiao
;
Li, Nami
;
Tang, Tengfei
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浏览/下载:22/0
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提交时间:2020/10/26
BOUT plus plus
Nanodust
plasma simulation
tokamak
Influence of the solenoid magnetic field on the self-modulation mechanism
期刊论文
LASER AND PARTICLE BEAMS, 2020, 卷号: 38, 期号: 2, 页码: 135-140
作者:
Zhao, Xiao-ying
;
Yang, Yang-yang
;
Jia, Huan
;
Xie, Zai-peng
;
Qi, Xin
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浏览/下载:122/0
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提交时间:2022/01/12
Particle beams
particle-in-cell simulation
plasma accelerator
self-modulation mechanism
wakefield
Simulation of Discharge Characteristics for the Plasma Etching of Large Area SiO2 Substrates
期刊论文
JOURNAL OF RUSSIAN LASER RESEARCH, 2020, 卷号: 41, 期号: 3, 页码: 258-267
作者:
Zhang JW(张景文)
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2020/11/30
reactive ion etching
capacitive coupled discharge
fluid simulation
discharge parameter
large area SiO2 substrates
plasma radial uniformity
Effects of Ion Energy and Density on the Plasma Etching-Induced Surface Area, Edge Electrical Field, and Multivacancies in MoSe2 Nanosheets for Enhancement of the Hydrogen Evolution Reaction
期刊论文
SMALL, 2020
作者:
Xiao, Dezhi
;
Ruan, Qingdong
;
Bao, De-Liang
;
Luo, Yang
;
Huang, Chao
收藏
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浏览/下载:69/0
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提交时间:2020/11/26
edge electric field
etched through-holes
hydrogen evolution reaction
multivacancies
plasma simulation
plasma-induced damage
Simulation of Discharge Characteristics for the Plasma Etching of Large Area SiO2 Substrates
期刊论文
JOURNAL OF RUSSIAN LASER RESEARCH, 2020, 卷号: 41, 期号: 3, 页码: 258-267
作者:
Zhang, Jingwen
;
Fan, Bin
;
Li, Zhiwei
;
Gao, Guohan
;
Li, Bincheng
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浏览/下载:30/0
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提交时间:2021/05/11
Reactive Ion Etching
Capacitive Coupled Discharge
Fluid Simulation
Discharge Parameter
Large Area Sio2 Substrates
Plasma Radial Uniformity
Discharge simulation and volt-second consumption analysis during ramp-up on the CFETR tokamak
期刊论文
CHINESE PHYSICS B, 2020, 卷号: 29
作者:
Liu, Cheng-Yue
;
Wu, Bin
;
Qian, Jin-Ping
;
Li, Guo-Qiang
;
Hou, Ya-Wei
收藏
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浏览/下载:15/0
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提交时间:2020/11/26
plasma current ramp-up
China Fusion Engineering Test Reactor
tokamak simulation code
volt-second consumption
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