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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 发表日期：2016     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 A high-activity nitrogen plasma flow source for deposition of silicon nitride films 期刊论文 SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2016, 卷号: 294, 页码: 194-200 作者:  Shi, D. Q.;  Xu, W.;  Miao, C. Y.;  Ma, C. Y.;  Ren, C. S. 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/09 Low-pressure plasma flow source  Electrical discharge  Optical emission spectroscopy  Nitrogen dissociation  Silicon nitride