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浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 限定条件 发表日期：2005    内容类型：其他     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 ICP体硅深刻蚀中侧壁形貌控制的研究 其他 2005-01-01 陈兢 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2015/11/11 刻蚀侧壁形貌  电感耦合等离子  深反应离子刻蚀  微机电系统  Notching效应  Bowing效应   PECVD SiC材料刻蚀技术研究 其他 2005-01-01 陈晟; 李志宏; 张国炳; 郭辉; 王煜; 田大宇; 李素兰; 边伟 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2015/11/11 PECVD碳化硅  反应离子刻蚀  电感耦合离子刻蚀  氢含量  功率  压强  刻蚀速率