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非晶Ni-Al-N薄膜用作Cu互连阻挡层的研究 期刊论文
真空科学与技术学报, 2011, 卷号: 31, 期号: 1, 页码: 23-26
作者:  陈剑辉[1];  刘保亭[2];  李晓红[3];  王宽冒[4];  李曼[5]
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硅基集成电路中Cu互连阻挡层的研究 期刊论文
材料导报, 2010, 卷号: 24, 期号: 11, 页码: 58-63,72
作者:  陈剑辉[1];  刘保亭[2];  赵冬月[3];  杨林[4];  李曼[5]
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