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一种机械强度高的大尺寸氧化石墨烯片层的制备方法 专利
申请日期: 2017-01-01,
作者:  钱哲[1];  臧超[2];  刘翔[3];  钱赵秋[4];  李德远[5]
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一种光耦合器件和光耦合单元 专利
申请日期: 2014-01-01,
作者:  庞拂飞[1];  王廷云[2];  夏倩[3];  陈石琼[4];  张仁武[5]
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