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纳米尺寸高k /Si_(1-x)Ge)x NMOS场效应管性能的数值模拟研究 期刊论文
人工晶体学报, 2015, 卷号: 44, 页码: 3656-3665
作者:  刘旭焱[1];  刘赐德[2];  屈重年[3];  海静[4];  卢志文[5]
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