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浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 限定条件 专题：华南理工大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 基体偏压对直流非平衡磁控溅射氮化硅薄膜生长特性的影响 期刊论文 《电镀与涂饰》, 2018, 卷号: 37, 页码: 570-575 作者:  石志锋[1,2] 郑志雯[2];  宁成云[2];  王迎军[2] 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/04/22 单晶硅  氮化硅薄膜  非平衡磁控溅射 基体偏压  沉积速率  表面形貌  化学态   硅氮薄膜的摩擦性能与其表面能的相关性 (EI收录) 期刊论文 《功能材料》, 2016, 卷号: 47, 页码: 12001-12006 作者:  石志锋[1];  黄楠[2];  王琳[1];  宁成云[1];  王迎军[1] 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/04/24 硅氮薄膜  磁控溅射 表面润湿性  摩擦性能