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科研机构
中国科学院大学 [1]
内容类型
期刊论文 [1]
发表日期
2016 [1]
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Mechanismand model of atomic hydrogen cleaning for different types of carbon contamination on extreme ultraviolet multilayers
期刊论文
Thin solid films, 2016, 卷号: 612, 页码: 96-100
作者:
Song, Yuan
;
Lu, Qipeng
;
Gong, Xuepeng
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提交时间:2019/05/09
Atomic hydrogen cleaning
Different types of carbon contamination
Extreme ultraviolet lithography
Cleaning mechanism
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