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科研机构
西安光学精密机械研究... [2]
内容类型
专利 [2]
发表日期
2018 [2]
学科主题
C23c16/455 [2]
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原子层沉积制备W掺杂Al2O3高阻薄膜的方法
专利
专利号: CN201810489471.1, 申请日期: 2018-05-21, 公开日期: 2018-09-28
作者:
朱香平
;
邹永星
;
赵卫
;
郭海涛
;
陆敏
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提交时间:2018/12/29
原子层沉积制备Mo掺杂Al2O3高阻薄膜的方法
专利
专利号: CN201810489472.6, 申请日期: 2018-05-21, 公开日期: 2018-09-28
作者:
朱香平
;
邹永星
;
赵卫
;
郭海涛
;
陆敏
收藏
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浏览/下载:36/0
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提交时间:2018/12/29
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