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一种对稀土Nd3+离子印迹复合膜的制备方法 专利
申请日期: 2016-01-01, 公开日期: 2017-02-22
作者:  张福生[1];  郑旭东[2];  刘恩利[3];  喻龙宝[4];  闫永胜[5]
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一种离子印迹的制备方法及其对镝离子的吸附应用 专利
申请日期: 2016-01-01, 公开日期: 2016-10-12
作者:  刘恩利[1];  郑旭东[2];  张福生[3];  卫潇[4];  闫永胜[5]
收藏  |  浏览/下载:2/0  |  提交时间:2019/12/24
一种荧光介孔硅材料的制备方法及其应用 专利
申请日期: 2016-01-01, 公开日期: 2016-11-30
作者:  郑旭东[1];  张福生[2];  刘恩利[3];  卫潇[4];  闫永胜[5]
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