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掺杂硅硅栅晶圆片快速热处理工艺中的温度分布 Temperature distribution of wafer with a doped silicon gate array during Rapid Thermal Process 期刊论文
2014, 卷号: 46, 页码: 124-128
作者:  王爱华[1];  牛义红[1];  刘宇[1];  陈铁军[1];  李立亚[2]
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