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浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 限定条件 专题：上海光学精密机械研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 基于粒子群优化算法的光刻机光源优化方法 期刊论文 光学学报, 2015, 卷号: 35, 期号: 4, 页码: 422002 作者:  王磊;  李思坤;  王向朝;  闫观勇;  杨朝兴 收藏  |  浏览/下载：22/0  |  提交时间：2016/11/28 基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法 期刊论文 光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 9, 页码: 911002 作者:  李兆泽;  李思坤;  王向朝 收藏  |  浏览/下载：41/0  |  提交时间：2016/11/25 光学制造  光刻  光源与掩模联合优化  分辨率增强技术  工艺窗口   基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法 期刊论文 光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 9, 页码: 911002 作者:  李兆泽;  李思坤;  王向朝 收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2016/11/28 光学制造  光刻  光源与掩模联合优化  分辨率增强技术  工艺窗口   基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法 期刊论文 光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 9, 页码: 911002 作者:  李兆泽;  李思坤;  王向朝 收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2016/11/28 光学制造  光刻  光源与掩模联合优化  分辨率增强技术  工艺窗口   基于粒子群算法的光刻机光源掩模投影物镜优化技术 学位论文 作者:  王磊 收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2018/12/26 光刻  optical lithography  分辨率增强技术  resolution enhancement technique  光源掩模投影物镜优化  source mask projector optimization  粒子群算法  particle swarm optimization