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半导体研究所 [12]
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期刊论文 [11]
会议论文 [1]
发表日期
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Infrared response of the lateral PIN structure of a highly titanium-doped silicon-on-insulator material
期刊论文
chinese physics b, 2011, 卷号: 20, 期号: 10, 页码: 106104
Ma, ZH
;
Cao, Q
;
Zuo, YH
;
Zheng, J
;
Xue, CL
;
Cheng, BW
;
Wang, QM
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浏览/下载:24/0
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提交时间:2012/02/06
infrared response
ion implantation
rapid thermal annealing
intermediate band solar cell
PHOTODIODE
Enhancement of conductivity and transmittance of ZnO films by post hydrogen plasma treatment
期刊论文
journal of applied physics, 2009, 卷号: 105, 期号: 8, 页码: art. no. 083713
作者:
Zhang XW
;
You JB
;
Yin ZG
收藏
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浏览/下载:70/1
  |  
提交时间:2010/03/08
annealing
carrier density
carrier mobility
diffusion
electrical conductivity
electrical resistivity
hydrogen
II-VI semiconductors
impurity states
interstitials
light transmission
plasma materials processing
semiconductor thin films
sputter deposition
vacancies (crystal)
visible spectra
wide band gap semiconductors
zinc compounds
Photoluminescence from C+ ion-implanted and electrochemical etched Si layers
期刊论文
applied surface science, 2006, 卷号: 252, 期号: 24, 页码: 8424-8427
Shi LW (Shi Liwei)
;
Wang Q (Wang Qiang)
;
Li YG (Li Yuguo)
;
Xue CS (Xue Chengshan)
;
Zhuang HZ (Zhuang Huizhao)
收藏
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浏览/下载:34/0
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提交时间:2010/04/11
ion implantation
annealing
chemical etching
photoluminescence
POROUS SILICON
LUMINESCENCE
Electron irradiation-induced defects in InP pre-annealed at high temperature
期刊论文
materials science in semiconductor processing, 2006, 卷号: 9, 期号: 1-3, 页码: 380-383
Zhao YW (Zhao Y. W.)
;
Dong ZY (Dong Z. Y.)
;
Deng AH (Deng A. H.)
收藏
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浏览/下载:42/0
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提交时间:2010/04/11
indium phosphide
defect
irradiation
THERMALLY STIMULATED CURRENT
UNDOPED SEMIINSULATING INP
DEEP-LEVEL DEFECTS
FRENKEL PAIRS
FE
SPECTROSCOPY
PHOSPHIDE
AMBIENT
TRAPS
Amorphous silicon carbide films prepared by H-2 diluted silane-methane plasma
期刊论文
journal of crystal growth, 2004, 卷号: 264, 期号: 1-3, 页码: 7-12
Hu ZH
;
Liao XB
;
Diao HW
;
Kong GL
;
Zeng XB
;
Xu YY
收藏
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浏览/下载:32/3
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提交时间:2010/03/09
annealing
Hydrogen related defects in neutron-irradiated silicon grown in hydrogen ambient
期刊论文
microelectronic engineering, 2003, 卷号: 66, 期号: 1-4, 页码: 333-339
Wang QY
;
Wang JH
;
Deng HF
;
Lin LY
收藏
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浏览/下载:45/0
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提交时间:2010/08/12
neutron irradiation
annealing
defects in silicon
SPECTRA
Annealing and activation of silicon implanted in semi-insulating InP substrates
期刊论文
materials science in semiconductor processing, 2003, 卷号: 6, 期号: 4, 页码: 215-218
Dong HW
;
Zhao YW
;
Li JM
收藏
  |  
浏览/下载:47/0
  |  
提交时间:2010/08/12
semi-insulating InP
ion implantation
silicon
annealing
activation
SI+-IMPLANTATION
PHOSPHIDE VAPOR
UNDOPED INP
FE
WAFERS
UNIFORMITY
PRESSURE
Hydrogen related defects in neutron-irradiated silicon grown in hydrogen ambient
会议论文
iumrs/icem 2002 conference, xian, peoples r china, jun 10-14, 2002
Wang QY
;
Wang JH
;
Deng HF
;
Lin LY
收藏
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2010/11/15
neutron irradiation
annealing
defects in silicon
SPECTRA
Structural properties of polycrystalline silicon films formed by pulsed rapid thermal processing
期刊论文
chinese physics, 2002, 卷号: 11, 期号: 5, 页码: 492-495
Wang YQ
;
Liao XB
;
Diao HW
;
Zhang SB
;
Xu YY
;
Chen CY
;
Chen WD
;
Kong GL
收藏
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浏览/下载:102/13
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提交时间:2010/08/12
polycrystalline silicon film
rapid thermal processing
microstructure
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
AMORPHOUS-SILICON
PRESSURE
TRANSISTORS
CRYSTALLIZATION
GROWTH
Effect of rapid thermal annealing and hydrogen plasma treatment on the microstructure and light-emission of silicon-rich oxide film
期刊论文
acta physica sinica, 2002, 卷号: 51, 期号: 7, 页码: 1564-1570
Wang YQ
;
Chen WD
;
Chen CY
;
Diao HW
;
Zhang SB
;
Xu YY
;
Kong GL
;
Liao XB
收藏
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浏览/下载:45/0
  |  
提交时间:2010/08/12
silicon-rich silicon oxide
microstructure
light-emission
rapid thermal annealing
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
AMORPHOUS-SILICON
POROUS SILICON
SI
LUMINESCENCE
NANOCRYSTALS
SPECTRA
SYSTEM
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