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半导体研究所 [13]
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期刊论文 [13]
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Effect of high temperature AlGaN buffer thickness on GaN Epilayer grown on Si(111) substrates
期刊论文
journal of materials science-materials in electronics, 2011, 卷号: 22, 期号: 8, 页码: 1028-1032
作者:
Pan X
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浏览/下载:20/0
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提交时间:2011/09/14
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
PHASE EPITAXY
ALN INTERLAYERS
FILMS
STRESS
LAYERS
DISLOCATIONS
REDUCTION
DENSITY
DIODES
Growth of GaN film on Si (111) substrate using AlN sandwich structure as buffer
期刊论文
journal of crystal growth, 2011, 卷号: 318, 期号: 1, 页码: 464-467
作者:
Pan X
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浏览/下载:81/5
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提交时间:2011/07/05
Sandwich structure
Stress
Aluminum nitride
Gallium nitride
Silicon
PHONON DEFORMATION POTENTIALS
WURTZITE ALN
SILICON
STRESS
TRANSISTORS
EPITAXY
LAYERS
Tensile and compressive mechanical behavior of twinned silicon carbide nanowires
期刊论文
acta materialia, 2010, 卷号: 58, 期号: 6, 页码: 1963-1971
作者:
Li JB
收藏
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浏览/下载:63/1
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提交时间:2010/04/22
Twinning
Nanotructures
Fracture
Buckling
Molecular dynamics
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
AB-INITIO CALCULATIONS
BETA-SIC NANOWIRES
LOW-TEMPERATURE
THIN-FILMS
SIMULATION
ELASTICITY
NANOTUBES
POLYTYPES
GROWTH
Comparison and combination of several stress relief methods for cubic boron nitride films deposited by ion beam assisted deposition
期刊论文
surface & coatings technology, 2009, 卷号: 203, 期号: 10-11, 页码: 1452-1456
作者:
Tan HR
;
Zhang XW
;
You JB
;
Fan YM
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浏览/下载:264/33
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提交时间:2010/03/08
Cubic boron nitride
Stress relaxation
Ion beam assisted deposition
Fourier transformed infrared spectroscopy
Growth and fabrication of algan/gan hemt based on si(111) substrates by mocvd
期刊论文
Microelectronics journal, 2008, 卷号: 39, 期号: 9, 页码: 1108-1111
作者:
Luo, Weijun
;
Wang, Xiaoliang
;
Xiao, Hongling
;
Wang, Cuimie
;
Ran, Junxue
收藏
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浏览/下载:43/0
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提交时间:2019/05/12
Algan/gan
High electron mobility transistor (hemt)
Si (111)
The effect of low temperature aln interlayers on the growth of gan epilayer on si (111) by mocvd
期刊论文
Superlattices and microstructures, 2008, 卷号: 44, 期号: 2, 页码: 153-159
作者:
Luo, Weijun
;
Wang, Xiaoliang
;
Guo, Lunchun
;
Xiao, Hongling
;
Wang, Cuimei
收藏
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浏览/下载:26/0
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提交时间:2019/05/12
Gallium nitride crack
Low temperature aluminum nitride
Interlayer
Silicon
Growth and fabrication of AlGaN/GaN HEMT based on Si(111) substrates by MOCVD
期刊论文
microelectronics journal, 2008, 卷号: 39, 期号: 9, 页码: 1108-1111
Luo, WJ
;
Wang, XL
;
Xiao, HL
;
Wang, CM
;
Ran, JX
;
Guo, LC
;
Li, JP
;
Liu, HX
;
Chen, YL
;
Yang, FH
;
Li, JM
收藏
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浏览/下载:44/0
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提交时间:2010/03/08
AlGaN/GaN
high electron mobility transistor (HEMT)
Si (111)
High-temperature AlN interlayer for crack-free AlGaN growth on GaN
期刊论文
journal of applied physics, 2008, 卷号: 104, 期号: 4, 页码: art. no. 043516
Sun, Q
;
Wang, JT
;
Wang, H
;
Jin, RQ
;
Jiang, DS
;
Zhu, JJ
;
Zhao, DG
;
Yang, H
;
Zhou, SQ
;
Wu, MF
;
Smeets, D
;
Vantomme, A
收藏
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浏览/下载:74/0
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提交时间:2010/03/08
STRESS
SI(111)
REDUCTION
THICKNESS
The effect of low temperature AlN interlayers on the growth of GaN epilayer on Si (111) by MOCVD
期刊论文
superlattices and microstructures, 2008, 卷号: 44, 期号: 2, 页码: 153-159
Luo, WJ
;
Wang, XL
;
Guo, LC
;
Xiao, HL
;
Wang, CM
;
Ran, JX
;
Li, JP
;
Li, JM
收藏
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浏览/下载:85/1
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提交时间:2010/03/08
gallium nitride crack
low temperature aluminum nitride
interlayer
silicon
Influence of aln thickness on strain evolution of gan layer grown on high-temperature aln interlayer
期刊论文
Journal of physics d-applied physics, 2007, 卷号: 40, 期号: 17, 页码: 5252-5255
作者:
Liu, W.
;
Wang, J. F.
;
Zhu, J. J.
;
Jiang, D. S.
;
Yang, H.
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2019/05/12
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