QQ客服 官方微博 反馈留言

浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 专题：上海应用物理研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 基于近场外差散斑的自由电子激光横向相干性测量的研究 学位论文 : 中国科学院大学(中国科学院上海应用物理研究所), 2018 作者:  姚超 收藏  |  浏览/下载：32/0  |  提交时间：2018/08/23 自由电子激光横向相干性测量方案  近场外差散斑方法  孪生测量   一种同步辐射X射线大面积干涉光刻系统 专利 专利号: CN105182701A, 申请日期: 2015-12-23, 公开日期: 2015-12-23 作者:  薛超凡;  吴衍青;  刘海岗;  杨树敏;  王连升 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2021/09/09 基于高级硅刻蚀和硅氧化工艺的软X射线干涉光刻分束光栅的优化设计 期刊论文 核技术, 2008, 期号: 06 朱伟忠; 吴衍青; 史沛熊; 郭智; 邰仁忠; 徐洪杰 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2012/06/06 软X射线透射光栅  衍射效率  高级硅刻蚀  硅氧化工艺  严格耦合波方法  软X射线干涉光刻   软X射线干涉光刻相关技术研究 学位论文 博士, 上海应用物理研究所: 中国科学院上海应用物理研究所, 2005 朱伟忠 收藏  |  浏览/下载：96/0  |  提交时间：2012/04/11 软X射线金属型透射光栅  严格耦合波方法  电子束光刻  衍射效率  软X射线干涉光刻