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浏览/检索结果: 共8条，第1-8条 帮助 限定条件 专题：金属研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 测量参数对某低压涡轮叶片显微疏松含量评定的影响 期刊论文 铸造技术, 2017, 期号: 08, 页码: 2053-2059 作者:  刘艳梅;  王铁钢;  周丽新;  冯辉;  李冬 收藏  |  浏览/下载：14/0  |  提交时间：2018/01/10 显微疏松  定量金相  测量参数   AlN/Al纳米复合材料的制备、结构表征与性能研究 学位论文 博士, 金属研究所: 中国科学院金属研究所, 2009 刘彦强 收藏  |  浏览/下载：269/0  |  提交时间：2012/04/10 金属基复合材料  纳米结构  AlN/Al  力学性能  耐磨性  热物性能   通用AVG曲线误差的研究 期刊论文 无损探伤, 2009, 期号: 2, 页码: 22-25 赵友杉; 苑家琪; 刘畅 收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2012/04/12 AVG曲线  当量法  误差   总气压对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜的光学性质的影响 期刊论文 真空科学与技术学报, 2005, 期号: 1, 页码: 69-72 王贺权,巴德纯,沈辉,汪保卫,闻立时 收藏  |  浏览/下载：30/0  |  提交时间：2012/04/12 二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  总气压  反射率   靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响 期刊论文 真空, 2005, 期号: 1, 页码: 11-14 王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时 收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2012/04/12 二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  靶基距  反射率   靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响 期刊论文 真空, 2005, 卷号: 42.0, 期号: 1.0, 页码: 11-14 作者:  王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时 收藏  |  浏览/下载：0/0  |  提交时间：2021/02/26 二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  靶基距  反射率   总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 期刊论文 真空科学与技术学报, 2005, 卷号: 25.0, 期号: 1.0, 页码: 65-68 作者:  王贺权;  巴德纯;  沈辉;  汪保卫;  闻立时 收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2021/02/02 TiO2薄膜  光学性质  直流反应磁控溅射  折射率  气压  晶体结构  硅基底  短波  对消  反射率   靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 会议论文 第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛, 深圳, 2004-11-15 王贺权; 沈辉; 巴德纯; 汪保卫; 闻立时 收藏  |  浏览/下载：26/0  |  提交时间：2013/08/21 二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  靶基距  反射率