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科研机构
大连理工大学 [9]
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期刊论文 [8]
会议论文 [1]
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2005 [2]
2003 [1]
2002 [1]
2001 [2]
1998 [3]
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等离子体清洗GaAs和Al_2O_3衬底的RHEED图像分析
期刊论文
华中科技大学学报(自然科学版), 2005, 页码: 88-91
作者:
章家岩
;
郎佳红
;
秦福文
;
顾彪
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提交时间:2020/01/02
电子回旋共振等离子体增强金属有机化学气相沉积
GaN
氢等离子体
氮化
等离子体清洗GaAs和Al2O3衬底的RHEED图像分析
期刊论文
华中科技大学学报(自然科学版), 2005, 卷号: 33, 页码: 88-91
作者:
章家岩
;
郎佳红
;
秦福文
;
顾彪
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提交时间:2020/01/02
电子回旋共振等离子体增强金属有机化学气相沉积
GaN
氢等离子体
氮化
在GaAs衬底表面生长GaN过程中的氮化新方法
期刊论文
半导体光电, 2003, 卷号: 24, 页码: 45-47
作者:
刘国涛
;
徐茵
;
顾彪
;
秦福文
;
周智猛
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提交时间:2020/01/02
外延生长
GaN薄膜
反射高能电子衍射
ECR-PEMOCVD法在GaAs(001)衬底上制备GaN量子点
期刊论文
半导体光电, 2002, 卷号: 23, 页码: 114-117
作者:
王三胜
;
顾彪
;
徐茵
;
徐久军
;
秦福文
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提交时间:2020/01/02
ECR-PEMOCVD
量子点
AFM
GaN
用N_2-H_2等离子体氮化GaAs衬底对ECR-PEMOCVD生长立方GaN的影响(英文)
期刊论文
发光学报, 2001, 页码: 24-28
作者:
王三胜
;
顾彪
;
徐茵
;
秦福文
;
隋郁
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提交时间:2020/01/02
ECR-PEMOCVD
氮化
缓冲层
立方GaN
氢等离子体
用N2-H2等离子体氮化GaAs衬底对ECR-PEMOCVD生长立方GaN的影响
期刊论文
发光学报, 2001, 卷号: 22, 页码: 24-28
作者:
王三胜
;
顾彪
;
徐茵
;
秦福文
;
隋郁
收藏
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提交时间:2020/01/02
ECR-PEMOCVD
氮化
缓冲层
立方GaN
氢等离子体
GaAs衬底上立方GaN的低温生长
期刊论文
稀有金属, 1998, 卷号: 22, 页码: 143-145
作者:
顾彪
;
徐茵
;
秦福文
;
丛吉远
;
张砚臣
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提交时间:2020/01/02
立方GaN
低温生长
活化氮源
ECR-PAMOCVD
(001)GaAs衬底上异质外延的立方GaN薄膜与界面
期刊论文
半导体学报, 1998, 卷号: 19, 页码: 241
作者:
顾彪
;
徐茵
;
孙凯
;
秦福文
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提交时间:2020/01/02
GaAs衬底
异质外延
GaN薄膜
界面
Plasma pretreatment of GaAs substrates and ECR-PAMOCVD of cubic GaN
会议论文
2nd International Symposium on Blue Laser and Light Emitting Diodes (2nd ISBLLED), CHIBA, JAPAN
作者:
Gu, B
;
Xu, Y
;
Qin, FW
;
Wang, SS
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提交时间:2020/01/06
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