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厦门大学 [2]
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期刊论文 [2]
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2002 [2]
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高择优取向Cu电沉积层的XRD研究
期刊论文
http://electrochem.xmu.edu.cn/CN/abstract/abstract9161.shtml, 2002
辜敏
;
杨防祖
;
黄令
;
姚士冰
;
周绍民
;
GU Min
;
YANG Fang_zu
;
HUANG Ling
;
YAO Shi_bing
;
ZHOU Shao_min
收藏
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提交时间:2013/11/18
电沉积
Cu镀层
结构
Electrodeposition
Cu deposit
Structure
高择优取向Cu 电沉积层的XRD 研究
期刊论文
2002
辜敏(汕头大学化学系)
;
杨防祖
;
黄令
;
姚士冰
;
周绍民
收藏
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2013/03/12
电沉积
Cu 镀层
结构
Electrodeposition
Cu deposit
Structure
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