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浏览/检索结果: 共13条，第1-10条 帮助 限定条件 专题：清华大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 硅晶圆上窄节距互连铜凸点 期刊论文 2016, 2016 刘子玉; 蔡坚; 王谦; 程熙云; 石璐璐; LIU Ziyu; CAI Jian; WANG Qian; CHENG Xiyun; SHI Lulu 收藏  |  浏览/下载：11/0 湿法刻蚀腔室结构数值优化 期刊论文 2016, 2016 王伟; 向东; 杨为; 夏焕雄; 张瀚; WANG Wei; XIANG Dong; YANG Wei; XIA Huan-xiong; ZHANG Han 收藏  |  浏览/下载：4/0 Photoelectrochemical etching of uniform macropore array on full 5-inch silicon wafers 期刊论文 http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=BDTX201007033&dbname=CJFQ2010, 2012, 2012 赵志刚; 郭金川; 雷耀虎; 牛憨笨 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2017/06/15 photoelectrochemical etching  macropore array  large area  non-uniformity  current density   氮化硅干法刻蚀工艺设备模型的试验与测量 期刊论文 2010, 2010 李煜; 李瑞伟; 王纪民; 付玉霞; LI Yu; LI Rui-wei; WANG Ji-min; FU Yu-xia 收藏  |  浏览/下载：2/0 ICP刻蚀机反应腔室气流仿真研究 期刊论文 2010, 2010 程嘉; 朱煜; CHENG Jia; ZHU Yu 收藏  |  浏览/下载：6/0 Characteristics of atmospheric-pressure, radio-frequency glow discharges operated with argon added ethanol 期刊论文 2010, 2010 Sun, Wen-Ting; Li, Guo; Li, He-Ping; Bao, Cheng-Yu; Wang, Hua-Bo; Zeng, Shi; Gao, Xing; Luo, Hui-Ying 收藏  |  浏览/下载：6/0 Gas flow simulation research on reaction chamber of ICP etcher 期刊论文 2010, 2010 Cheng Jia; Zhu Yu 收藏  |  浏览/下载：5/0 Electrical features of radio-frequency, atmospheric-pressure, bare-metallic-electrode glow discharges 期刊论文 2010, 2010, OCT Li, He-Ping; Sun, Wen-Ting; Wang, Hua-Bo; Li, Guo; Bao, Cheng-Yu 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2017/06/15 atmospheric-pressure glow discharge  radio frequency  air  nitrogen  bare metallic electrode  CAPACITIVE PLASMA SOURCE  SILICON DIOXIDE FILMS  RF-DISCHARGE  JET  GAS  DEPOSITION  INACTIVATION  MODES  Engineering, Chemical  Physics, Applied  Physics, Fluids & Plasmas   Influence of configurations of chamber and coil on uniformity of plasma distribution for inductively coupled plasma etcher 会议论文 International Technology and Innovation Conference 2006. ITIC 2006, International Technology and Innovation Conference 2006. ITIC 2006, Hangzhou, China, INSPEC Cheng Jia; Zhu Yu 收藏  |  浏览/下载：6/0 Analysis of processing chamber flow field characteristics for an ICP etcher based on regression orthogonal design 期刊论文 2010, 2010 Cheng Jia; Zhu Yu; Duan Guanghong; Wang Chunhong 收藏  |  浏览/下载：4/0