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科研机构
微电子研究所 [4]
内容类型
外文期刊 [4]
发表日期
2009 [1]
2007 [1]
2006 [1]
1998 [1]
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内容类型:外文期刊
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Finite-element study of strain field in strained-Si MOSFET
外文期刊
2009
作者:
Liu, HH
;
Xu, QX
;
Duan, XF
收藏
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浏览/下载:17/0
  |  
提交时间:2010/11/26
Beam Electron-diffraction
Hole Mobility Enhancement
Elastic Relaxation
Layer Superlattices
Effect Transistors
Cmos Performance
Silicon
Specimens
Pmosfets
Quasi-SOI MOSFETs - A promising bulk device candidate for extremely scaled era
外文期刊
2007
作者:
Tian, Y
;
Xiao, H
;
Huang, R
;
Feng, C
;
Chan, M
收藏
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浏览/下载:11/0
  |  
提交时间:2010/11/26
Cmos Devices
A short-channel SOI RF power LDMOS technology with TiSi2 salicide on dual sidewalls with cutoff frequency f(T) similar to 19.3 GHz
外文期刊
2006
作者:
Yang, R
;
Li, JF
;
Qian, H
;
Lo, GQ
;
Balasubramanian, N
收藏
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浏览/下载:14/0
  |  
提交时间:2010/11/26
Thin-film Soi
Device
Mosfet
Cmos
Silicon
Performance
Analog
New Ti-SALICIDE process using Sb and Ge preamorphization for sub-o.2 mu m CMOS technology
外文期刊
1998
作者:
Xu, QX
;
Hu, CM
收藏
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浏览/下载:8/0
  |  
提交时间:2010/11/26
Thin-films
Tisi2
Silicon
Transformation
Phase
Agglomeration
Resistance
Stability
Devices
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