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氮化镓材料的ICP刻饰损伤与回复研究 会议论文
中国光学学会2006年学术大会论文摘要集, 2006
于广辉; 王笑龙; 王新中; 林朝通; 曹明霞; 齐鸣; 李爱珍
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离子刻蚀Ⅲ-Ⅴ族半导体材料的损伤机理 会议论文
功能材料, 2006
吴惠桢; 曹萌; 劳燕锋; 刘成; 谢正生; 曹春芳
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