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西安光学精密机械研究... [7]
沈阳自动化研究所 [1]
内容类型
专利 [8]
发表日期
2019 [1]
2016 [1]
2005 [1]
1989 [1]
1986 [1]
1982 [1]
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Thin film and substrate-removed group III-nitride based devices and method
专利
专利号: US10249786, 申请日期: 2019-04-02, 公开日期: 2019-04-02
作者:
BATRES, MAX
;
YANG, ZHIHONG
;
WUNDERER, THOMAS
收藏
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浏览/下载:35/0
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提交时间:2019/12/23
一种一体化野外作业检测仪箱体结构
专利
专利类型: 发明授权, 专利号: CN105686293B, 申请日期: 2016-06-22, 公开日期: 2017-11-10
作者:
于海
;
石刚
;
孟威宏
;
朱国昕
;
王恒之
收藏
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浏览/下载:16/0
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提交时间:2017/11/28
Group III nitride compound semiconductor light-emitting device
专利
专利号: US6861663, 申请日期: 2005-03-01, 公开日期: 2005-03-01
作者:
SAWAZAKI, KATSUHISA
;
ASAI, MAKOTO
;
KANEYAMA, NAOKI
收藏
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2019/12/26
Semiconductor laser device
专利
专利号: JP1989100988A, 申请日期: 1989-04-19, 公开日期: 1989-04-19
作者:
KASAI SHUSUKE
;
TAKIGUCHI HARUHISA
;
MORIMOTO TAIJI
;
KANEIWA SHINJI
;
HAYASHI HIROSHI
收藏
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2020/01/13
Semiconductor laser crystal
专利
专利号: JP1986096789A, 申请日期: 1986-05-15, 公开日期: 1986-05-15
作者:
UCHIDA MAMORU
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2019/12/31
Liquid phase epitaxially growing method and device for gallium arsenide and /or aluminum gallium arsenide
专利
专利号: JP1982056925A, 申请日期: 1982-04-05, 公开日期: 1982-04-05
作者:
KONDOU KAZUO
收藏
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浏览/下载:8/0
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提交时间:2019/12/31
METHOD FOR ACHIEVING IMPROVED EPITAXY QUALITY (SURFACE TEXTURE AND DEFECT DENSITY) ON FREE-STANDING (ALUMINUM, INDIUM, GALLIUM) NITRIDE ((Al,In,Ga)N) SUBSTRATES FOR OPTO-ELECTRONIC AND ELECTRONIC DEVICES
专利
专利号: EP1299900A2, 公开日期: 2003-04-09
作者:
FLYNN, JEFFREY, S.
;
BRANDES, GEORGE, R.
;
VAUDO, ROBERT, P.
;
KEOGH, DAVID, M.
;
XU, XUEPING
收藏
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2019/12/26
Maskless lateral epitaxial overgrowth of aluminum nitride and high aluminum composition aluminum gallium nitride
专利
专利号: WO2005041269A3, 公开日期: 2006-03-30
作者:
KATONA THOMAS M
;
KELLER STACIA
;
ALEJANDRO PABLO CANTU
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2019/12/26
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