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| 一种碳基半导体器件制备工艺中对衬底进行预处理的方法 专利 专利号: CN103456607A, 申请日期: 2013-12-18, 作者: 史敬元; 金智; 张大勇; 麻芃; 彭松昂 收藏  |  浏览/下载:14/0  |  提交时间:2018/02/07 |
| 氮化物半导体自支撑衬底、氮化物半导体自支撑衬底的制造方法以及氮化物半导体装置 专利 专利号: CN101996862A, 申请日期: 2011-03-30, 公开日期: 2011-03-30 作者: 藤仓序章 收藏  |  浏览/下载:50/0  |  提交时间:2020/01/18 |
| 曝光装置 专利 专利号: CN101289024A, 申请日期: 2008-10-22, 公开日期: 2008-10-22 作者: 安田悟; 藤本守; 岩佐博司 收藏  |  浏览/下载:3/0  |  提交时间:2020/01/18 |
| 内視鏡装置 专利 专利号: JP2008212348A, 申请日期: 2008-09-18, 公开日期: 2008-09-18 作者: 笠井 洋一朗 收藏  |  浏览/下载:9/0  |  提交时间:2019/12/31 |
| デジタル画像形成装置 专利 专利号: JP1996252945A, 申请日期: 1996-10-01, 公开日期: 1996-10-01 作者: 西沢 克彦 收藏  |  浏览/下载:4/0  |  提交时间:2019/12/31 |