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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 内容类型：专利    专题：微电子研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 一种掩膜图形的优化方法、最佳焦平面位置测量方法及系统 专利 专利号: CN201610342206.1, 申请日期: 2017-06-30, 公开日期: 2016-07-20 作者:  韦亚一;  董立松;  宋之洋 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2018/04/10