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采用三维排气孔装置的SOI/III-V整片晶片键合方法 专利
专利号: CN201010574339.4, 申请日期: 2014-01-01, 公开日期: 2012-06-06
作者:  刘焕明;  申华军;  周静涛;  刘新宇;  杨成樾
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在厚负性高分辨率电子束抗蚀剂HSQ上制作密集图形的方法 专利
专利号: CN200810116381.4, 申请日期: 2012-03-21, 公开日期: 2010-01-13
作者:  陈宝钦;  刘明;  赵珉;  朱效立
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