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具高功率脉冲离子源的磁控溅射装置 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: 201520840239.X, 申请日期: 2016-04-13, 公开日期: 2016-04-13
作者:  张斌;  张俊彦;  高凯雄;  强力;  王健
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用于光催化反应研究的装置 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: 200620164949.6, 申请日期: 2008-02-06, 公开日期: 2008-02-06
陈淼; 陈强
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