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科研机构
半导体研究所 [5]
内容类型
期刊论文 [5]
发表日期
2011 [1]
2010 [1]
1998 [1]
1997 [2]
学科主题
半导体材料 [5]
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学科主题:半导体材料
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Electrical transport properties of the Si-doped cubic boron nitride thin films prepared by in situ cosputtering
期刊论文
journal of applied physics, 2011, 卷号: 109, 期号: 2, 页码: article no.23716
作者:
Yin ZG
;
Zhang XW
;
Tan HR
;
Fan YM
;
Zhang SG
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浏览/下载:43/3
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提交时间:2011/07/05
HIGH-PRESSURE SYNTHESIS
VAPOR-DEPOSITION
NUCLEATION
EMISSION
DIAMOND
GROWTH
Origin of flat-band voltage sharp roll-off in metal gate/high-k/ultrathin- SiO2/Si p-channel metal-oxide-semiconductor stacks
期刊论文
applied physics letters, 2010, 卷号: 97, 期号: 13, 页码: art. no. 132908
Zheng XH (Zheng X. H.)
;
Huang AP (Huang A. P.)
;
Xiao ZS (Xiao Z. S.)
;
Yang ZC (Yang Z. C.)
;
Wang M (Wang M.)
;
Zhang XW (Zhang X. W.)
;
Wang WW (Wang W. W.)
;
Chu PK (Chu Paul K.)
收藏
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2010/11/14
OXYGEN
GATE
DIFFUSION
FILMS
The growth of an AlGaN/GaN modulation-doped heterostructure by NH3 source molecular beam epitaxy
期刊论文
journal of crystal growth, 1998, 卷号: 192, 期号: 1-2, 页码: 93-96
Zhang JP
;
Sun DZ
;
Li XB
;
Wang XL
;
Fu RH
;
Kong MY
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浏览/下载:29/0
  |  
提交时间:2010/08/12
GaN
2DEG
MD heterostructure
MBE
photoluminescence
GAN
LUMINESCENCE
PLASMA
GALLIUM NITRIDE
Kinetics and transport model for the chemical vapor epitaxy of GexSi1-x
期刊论文
journal of crystal growth, 1997, 卷号: 172, 期号: 0, 页码: 381-388
Jin XJ
;
Liang JW
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2010/11/17
ATMOSPHERIC-PRESSURE
DEPOSITION
GROWTH
SIH2CL2
LAYERS
SI
The dependence of GexSi1-x epitaxial growth on GeH4 flow using chemical vapour deposition
期刊论文
journal of materials science-materials in electronics, 1997, 卷号: 8, 期号: 6, 页码: 405-408
Jin XJ
;
Liang JW
收藏
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浏览/下载:20/0
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提交时间:2010/08/12
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