×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
CORC
首页
科研机构
检索
知识图谱
申请加入
托管服务
登录
注册
在结果中检索
科研机构
半导体研究所 [2]
内容类型
会议论文 [1]
期刊论文 [1]
发表日期
2011 [1]
2000 [1]
学科主题
光电子学 [2]
×
知识图谱
CORC
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共2条,第1-2条
帮助
限定条件
学科主题:光电子学
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
作者升序
作者降序
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
Epitaxial growth and thermal stability of Ge1-xSnx alloys on Ge-buffered Si(001) substrates
期刊论文
journal of crystal growth, 2011, 卷号: 317, 期号: 1, 页码: 43-46
Su SJ
;
Wang W
;
Cheng BW
;
Zhang GZ
;
Hu WX
;
Xue CL
;
Zuo YH
;
Wang QM
收藏
  |  
浏览/下载:74/4
  |  
提交时间:2011/07/05
Thermal stability
Molecular beam epitaxy
Germanium tin alloys
Germanium
MOLECULAR-BEAM EPITAXY
LOW-TEMPERATURE
SEMICONDUCTORS
GE(001)2X1
In situ annealing during the growth of relaxed SiGe
会议论文
conference on optical and infrared thin films, san diego, ca, 36739
Li DZ
;
Huang CJ
;
Cheng BW
;
Wang HJ
;
Yu Z
;
Zhang CH
;
Yu JZ
;
Wang QM
收藏
  |  
浏览/下载:14/0
  |  
提交时间:2010/10/29
Ultrahigh Vacuum Chemical Vapor Deposition
SiGe
Refractive High Energy Electron Diffraction
tansmission electron microscopy
Double Crystal X-Ray Diffraction
MOBILITY 2-DIMENSIONAL ELECTRON
CRITICAL THICKNESS
STRAINED LAYERS
GE
RELAXATION
EPILAYERS
SI1-XGEX
GESI/SI
GASES
©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by
CSpace