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基于纳米压印光栅的二次干法刻蚀方法及外延片和激光器 专利
专利号: CN106025795B, 申请日期: 2019-09-24, 公开日期: 2019-09-24
作者:  王海丽;  赵懿昊;  张奇;  王文知;  仲莉
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基于纳米压印光栅的二次干法刻蚀方法及外延片和激光器 专利
专利号: CN106025795B, 申请日期: 2019-09-24, 公开日期: 2019-09-24
作者:  王海丽;  赵懿昊;  张奇;  王文知;  仲莉
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基于纳米压印光栅的两步干法刻蚀方法及外延片和激光器 专利
专利号: CN106099637B, 申请日期: 2019-09-24, 公开日期: 2019-09-24
作者:  王海丽;  赵懿昊;  张奇;  仲莉;  刘素平
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基于纳米压印光栅的两步干法刻蚀方法及外延片和激光器 专利
专利号: CN106099637B, 申请日期: 2019-09-24, 公开日期: 2019-09-24
作者:  王海丽;  赵懿昊;  张奇;  仲莉;  刘素平
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一种改善VCSEL侧壁形貌的干法刻蚀方法 专利
专利号: CN110137804A, 申请日期: 2019-08-16, 公开日期: 2019-08-16
作者:  刘恒;  王俊;  谭少阳;  荣宇峰;  曾冠澐
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