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浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 限定条件 发表日期：2018     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Molecular Glass Photoresists with High Resolution, Low LER, and High Sensitivity for EUV Lithography 期刊论文 MACROMOLECULAR MATERIALS AND ENGINEERING, 2018, 卷号: 303, 期号: 6 作者:  Peng, Xiaoman;  Wang, Yafei;  Xu, Jian;  Yuan, Hua;  Wang, Liangqian 收藏  |  浏览/下载：35/0  |  提交时间：2019/04/09 Euv  Lithography  Molecular Glasses  Photoresists   Source/Drain Engineered Charge-Plasma Junctionless Transistor for the Immune of Line Edge Roughness Effect 期刊论文 IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 2018, 卷号: 65, 期号: 5, 页码: 1873-1879 作者:  Wan, Wenbo;  Lou, Haijun;  Xiao, Ying;  Lin, Xinnan 收藏  |  浏览/下载：35/0  |  提交时间：2019/11/15 Charge-plasma  charge-plasma junctionless transistor (CP-JLT)  line edge roughness (LER)  variation