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浏览/检索结果: 共6条，第1-6条 帮助 限定条件 发表日期：2018    内容类型：专利     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Electrodeless light-emitting diode display and method for fabricating the same 专利 专利号: US20180323235A1, 申请日期: 2018-11-08, 公开日期: 2018-11-08 作者:  HORNG, RAY-HUA;  CHIEN, HUAN-YU;  CHEN, KEN-YEN 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2019/12/30 一种半导体器件的制造方法 专利 专利号: US10115804, 申请日期: 2018-10-30, 公开日期: 2015-11-12 作者:  王桂磊;  李俊峰;  刘金彪;  赵超 收藏  |  浏览/下载：22/0  |  提交时间：2019/03/27 Multi-operation laser tooling for deposition and material processing operations 专利 专利号: US20180214985A1, 申请日期: 2018-08-02, 公开日期: 2018-08-02 作者:  VICTOR, BRIAN M.;  GROSS, KEN;  BROWN, AARON W.;  KLINER, DAHV A.V. 收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2019/12/30 一种制备钛铝合金薄膜的方法 专利 专利号: US9954071, 申请日期: 2018-04-24, 公开日期: 2017-04-13 作者:  丁玉强;  赵超;  项金娟 收藏  |  浏览/下载：22/0  |  提交时间：2019/03/27 Vertical emitters integrated on silicon control backplane 专利 专利号: WO2018053378A1, 申请日期: 2018-03-22, 公开日期: 2018-03-22 作者:  - 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2019/12/31 Material surface hydrophobization treatment method involves opening air supply system and passing vaporized reactant monomer and initiator into chemical vapor deposition reaction chamber at specific flow ratio and coating deposition time. 专利 申请日期: 2018-01-01, 公开日期: 2018-02-23 作者:  GUO F CONG S CAI Y 收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2019/12/02