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浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 限定条件 发表日期：2017     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Effects of Post Annealing Treatments on the Interfacial Chemical Properties and Band Alignment of AlN/Si Structure Prepared by Atomic Layer Deposition 期刊论文 Nanoscale Research Letters, 2017, 卷号: 12 作者:  Sun, L.;  H. L. Lu;  H. Y. Chen;  T. Wang;  X. M. Ji 收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2018/06/13 Atomic Layer Deposition of HfO2 Gate Dielectric with Surface Treatments and Post-metallization Annealing for Germanium MOSFETs 会议论文 作者:  Liu, Qifeng;  Lam, Sang;  Mu, Yifei;  Zhao, Ce Zhou;  Zhao, Yinchao 收藏  |  浏览/下载：13/0  |  提交时间：2019/11/26