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科研机构
北京大学 [2]
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期刊论文 [2]
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2017 [2]
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发表日期:2017
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Source-drain resistance characteristics of back-channel etched amorphous InGaZnO thin film transistors with TiO2:Nb protective layer
期刊论文
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 2017
Zhang, Letao
;
Zhou, Xiaoliang
;
Chang, Baozhu
;
Wang, Longyan
;
Xiao, Yuxiang
;
He, Hongyu
;
Zhang, Shengdong
收藏
  |  
浏览/下载:8/0
  |  
提交时间:2017/12/03
Amorphous indium gallium zinc oxide
Thin film transistors
Source-drain parasitic resistance
TiO2:Nb
Films thickness
THRESHOLD VOLTAGE
ANATASE TIO2
PERFORMANCE
SHIFT
TFTS
Nb Doped TiO2 Protected Back-Channel-Etched Amorphous InGaZnO Thin Film Transistors
期刊论文
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS, 2017
Zhang, Letao
;
Zhou, Xiaoliang
;
Yang, Huan
;
He, Hongyu
;
Wang, Longyan
;
Zhang, Min
;
Zhang, Shengdong
收藏
  |  
浏览/下载:4/0
  |  
提交时间:2017/12/03
Amorphous indium gallium zinc oxide (a-IGZO)
thin film transistors (TFTs)
back-channel-etch (BCE) process
Nb doped TiO2
THRESHOLD VOLTAGE
CARBON-NANOFILM
BARRIER LAYER
PERFORMANCE
SHIFT
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