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Transistor gate line roughness formation and reduction in sub-30-nm gate patterning using multilayer hard mask structure 期刊论文
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, 2014
作者:  Li JF(李俊峰);  Meng LK(孟令款);  He XB(贺晓彬);  Li CL(李春龙);  Li JJ(李俊杰)
收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2015/05/06
A novel method for photolithographic polymer shadow masking: toward high-resolution high-performance top-contact organic field effect transistors 期刊论文
CHEMICAL COMMUNICATIONS, 2014, 卷号: 50, 期号: 61, 页码: 8328-8330
作者:  Ji, Deyang;  Jiang, Longfeng;  Jiang, Lang;  Fu, Xiaolong;  Dong, Huanli
收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2019/04/09
差分和线性分析的代数自动化方法 学位论文
博士, 北京: 中国科学院研究生院, 2014
吴生宝
收藏  |  浏览/下载：44/0  |  提交时间：2014/05/29
半导体器件及其制造方法 专利
专利号: US8652891, 申请日期: 2014-02-18, 公开日期: 2013-01-29
作者:  徐秋霞;  殷华湘;  秦长亮;  陈大鹏
收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2015/05/27
Demonstration of Normally-Off Recess-Gated AlGaN/GaN MOSFET Using GaN Cap Layer as Recess Mask 期刊论文
ieee electron device letters, 2014
Xu, Zhe; Wang, Jinyan; Liu, Jingqian; Jin, Chunyan; Cai, Yong; Yang, Zhenchuan; Wang, Maojun; Yu, Min; Xie, Bing; Wu, Wengang; Ma, Xiaohua; Zhang, Jincheng; Hao, Yue
收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2015/11/10
Innovatively composite hard mask to feature sub-30nm gate patterning 期刊论文
Microelectronic Engineering, 2014
作者:  Yan J(闫江);  Zhao C(赵超);  Meng LK(孟令款);  Li CL(李春龙);  He XB(贺晓彬)
收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2015/05/06
Demonstration of Normally-Off Recess-Gated AlGaN/GaN MOSFET Using GaN Cap Layer as Recess Mask 期刊论文
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS, 2014, 卷号: 35, 期号: 12, 页码: 1197-1199
作者:  Cai, Y (蔡勇)
收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2015/02/03
基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法 期刊论文
光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 9, 页码: 911002
作者:  李兆泽;  李思坤;  王向朝
收藏  |  浏览/下载：41/0  |  提交时间：2016/11/25
基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法 期刊论文
光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 9, 页码: 911002
作者:  李兆泽;  李思坤;  王向朝
收藏  |  浏览/下载：18/0  |  提交时间：2016/11/28
基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法 期刊论文
光学学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 9, 页码: 911002
作者:  李兆泽
收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2016/11/28

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