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浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 限定条件 发表日期：2011    专题：半导体研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Influence of high-dose nitrogen implantation on the positive charge density of the buried oxide of silicon-on-insulator wafers 期刊论文 Acta physica sinica, 2011, 卷号: 60, 期号: 5, 页码: 6 作者:  Tang Hai-Ma;  Zheng Zhong-Shan;  Zhang En-Xia;  Yu Fang;  Li Ning 收藏  |  浏览/下载：24/0  |  提交时间：2019/05/12 Separation by oxygen implantation  Buried oxide  Nitrogen implantation  Positive charge density   Nanostructural instability of single-walled carbon nanotubes during electron beam induced shrinkage 期刊论文 carbon, 2011, 卷号: 49, 期号: 9, 页码: 3120-3124 Zhu XF; Li LX; Huang SL; Wang ZG; Lu GQ; Sun CH; Wang LZ 收藏  |  浏览/下载：25/3  |  提交时间：2011/07/05 IRRADIATION  NANOCAVITY   Infrared transition properties of vanadium dioxide thin films across semiconductor-metal transition 期刊论文 rare metals, 2011, 卷号: 30, 期号: 3, 页码: 247-251 作者:  Li GK 收藏  |  浏览/下载：74/2  |  提交时间：2011/07/05 vanadium dioxide  infrared transition  diffraction effect  dual ion beam sputtering  annealing   Influence of high-dose nitrogen implantation on the positive charge density of the buried oxide of silicon-on-insulator wafers 期刊论文 acta physica sinica, 2011, 卷号: 60, 期号: 5, 页码: article no.56104 作者:  Yu F 收藏  |  浏览/下载：93/6  |  提交时间：2011/07/06 separation by oxygen implantation  buried oxide  nitrogen implantation  positive charge density  RADIATION HARDNESS  IMPLANTING NITROGEN  ION-IMPLANTATION  IMPROVEMENT  TECHNOLOGY  OXYGEN  LAYER   Properties investigation of GaN films implanted by Sm ions under different implantation and annealing conditions 期刊论文 applied physics a-materials science & processing, 2011, 卷号: 104, 期号: 1, 页码: 429-432 作者:  Zhang ML 收藏  |  浏览/下载：65/4  |  提交时间：2011/07/07 GaN  Ferromagnetic  Implantation  Annealing