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HVPE方法生长氮化镓膜中的SiO2纳米掩膜及方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN101320686, 申请日期: 2008-12-10, 公开日期: 2008-12-10
王新中; 于广辉; 林朝通; 曹明霞; 巩航; 齐鸣; 李爱珍
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