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集成电路铜互连一步化学机械抛光工艺及相应纳米抛光液 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN1731567, 申请日期: 2006-02-08, 公开日期: 2006-02-08
张楷亮; 宋志棠; 封松林; 陈邦明
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