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浏览/检索结果: 共11条，第1-10条 帮助 限定条件 发表日期：2005     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 弱硼掺杂补偿对氢化微晶硅薄膜制备与特性的影响 期刊论文 2005, 卷号: 26, 期号: [db:dc_citation_issue], 页码: 1164 作者:  黄君凯[1];  杨恢东[1] 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/03 甚高频等离子体增强化学气相沉积  氢化微晶硅薄膜  弱硼掺杂补偿   微晶硅太阳电池 期刊论文 半导体学报, 2005, 卷号: 第26卷, 页码: 1582-1585 作者:  张晓丹;  高艳涛;  赵颖;  朱锋;  魏长春 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/03/04 甚高频等离子体增强化学气相沉积  微晶硅太阳电池  X射线衍射   VHF-PECVD制备微晶硅材料及电池 期刊论文 半导体学报, 2005, 卷号: 第26卷, 页码: 952-957 作者:  张晓丹;  赵颖;  朱锋;  魏长春;  高艳涛 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/03/04 甚高频等离子体增强化学气相沉积  微晶硅薄膜  微晶硅电池   VHF-PECVD制备微晶硅薄膜及其微结构表征研究 期刊论文 人工晶体学报, 2005, 卷号: 第34卷, 页码: 475-478 作者:  张晓丹;  高艳涛;  赵颖;  朱锋;  魏长春 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/03/04 甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)  微晶硅  衬底温度   二次离子质谱深度剖面分析氢化微晶硅薄膜中的氧污染 期刊论文 物理学报, 2005, 卷号: 第54卷, 页码: 1895-1898 作者:  张晓丹;  赵颖;  朱锋;  魏长春;  麦耀华 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/03/04 甚高频等离子体增强化学气相沉积  二次离子质谱  氧污染   VHF-PECVD低温制备微晶硅薄膜的拉曼散射光谱和光发射谱研究 期刊论文 物理学报, 2005, 卷号: 第54卷, 页码: 445-449 作者:  张晓丹;  赵颖;  朱锋;  魏长春;  吴春亚 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2019/03/01 甚高频等离子体增强化学气相沉积  微晶硅  拉曼散射谱  光发射谱   VHF-PECVD制备不同氢稀释条件下硅薄膜特性分析 期刊论文 人工晶体学报, 2005, 卷号: 第34卷, 页码: 56-59,64 作者:  张晓丹;  高艳涛;  赵颖;  朱锋;  魏长春 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2019/03/01 甚高频等离子体增强化学气相沉积  微晶硅薄膜  傅立叶变换红外吸收   甚高频等离子体增强化学气相沉积制备微晶硅太阳电池的研究 期刊论文 物理学报, 2005, 卷号: 第54卷, 页码: 1899-1903 作者:  张晓丹;  赵颖;  高艳涛;  朱锋;  魏长春 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/03/01 微晶硅太阳电池  甚高频等离子体增强化学气相沉积   本征微晶硅薄膜和微晶硅电池的制备及其特性研究 期刊论文 人工晶体学报, 2005, 卷号: 第34卷, 页码: 297-300 作者:  张晓丹;  高艳涛;  赵颖;  朱锋;  魏长春 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/03/01 甚高频等离子体增强化学气相沉积  微晶硅  太阳电池   VHF-PECVD制备不同衬底温度微晶硅薄膜结构研究 期刊论文 电子学报, 2005, 卷号: 第33卷, 页码: 920-922 作者:  张晓丹;  赵颖;  高艳涛;  朱锋;  魏长春 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/03/01 甚高频等离子体增强化学气相沉积  微晶硅  衬底温度