×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
CORC
首页
科研机构
检索
知识图谱
申请加入
托管服务
登录
注册
在结果中检索
科研机构
新疆理化技术研究所 [1]
内容类型
期刊论文 [1]
发表日期
2005 [1]
学科主题
Engineerin... [1]
×
知识图谱
CORC
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共1条,第1-1条
帮助
限定条件
发表日期:2005
学科主题:Engineering (provided by Thomson Reuters)
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
作者升序
作者降序
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
p型单晶硅涂源掺锰新方法
期刊论文
电子元件与材料, 2005, 卷号: 24, 期号: 6, 页码: 21-23
作者:
崔志明
;
巴维真
;
陈朝阳
;
蔡志军
;
丛秀云
收藏
  |  
浏览/下载:11/0
  |  
提交时间:2012/11/29
电子技术
扩散源
补偿度
固相反应
锰硅化物
©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by
CSpace