硅基光子晶体板的光刻和反应离子刻蚀

	硅基光子晶体板的光刻和反应离子刻蚀
	张磊 ; 张晓玉 ; 张福甲 ; 姚汉民 ; 杜春雷 ; 刘强 ; 潘莉
刊名	光电工程
	2004
卷号	31 期号:2 页码:1-3，7
通讯作者	张磊
收录类别	Ei
语种	中文
公开日期	2015-12-24
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/874]
专题	光电技术研究所_微细加工光学技术国家重点实验室（开放室）
推荐引用方式 GB/T 7714	张磊,张晓玉,张福甲,等. 硅基光子晶体板的光刻和反应离子刻蚀[J]. 光电工程,2004,31(2):1-3，7.
APA	张磊.,张晓玉.,张福甲.,姚汉民.,杜春雷.,...&潘莉.(2004).硅基光子晶体板的光刻和反应离子刻蚀.光电工程,31(2),1-3，7.
MLA	张磊,et al."硅基光子晶体板的光刻和反应离子刻蚀".光电工程 31.2(2004):1-3，7.