题名 | 乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合的研究 |
作者 | 颜文革 |
学位类别 | 博士 |
答辩日期 | 1989 |
授予单位 | 中国科学院长春应用化学研究所 |
授予地点 | 中国科学院长春应用化学研究所 |
学位专业 | 高分子化学 |
中文摘要 | 采用Ar、He、H_2、N_2、NH_3作为等离子气体,在外部电极电容耦合的管状反应器内对乙烯基三甲基硅烷(VTMS)进行等离子体聚合。总结了有和无等离子气体存在时VTMS的聚合规律,实验结果表明Ar、He、H_2、N_2等离子气体的存在对引发单体有利,使得淀积速率增大,它们的存在与否不影响聚合物的淀积分布规律。NH_3为强腐蚀性气体,它作为等离子气体参与反应,使聚合物淀积速率降低,强烈改变了聚合物的淀积分布规律。实验结果还表明聚合物淀积速率受到放电功率和单体压力的影响,为了从理论上研究反应参数对淀积速率的影响,运用旋转中心混合方法(RCC)优选实验数据,求出了VTMS聚合反应的动力学方程。从所得方程求出在功率为90瓦,压力为5.9帕时,VTMS淀积速率最大,另外从方程得出功率和压力两因素对淀积速率的影响程度差别不大,它们皆为主要反应参数。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2011-01-17 ; 2011-04-28 |
页码 | 97 |
内容类型 | 学位论文 |
源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/35345] |
专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_学位论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 颜文革. 乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合的研究[D]. 中国科学院长春应用化学研究所. 中国科学院长春应用化学研究所. 1989. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论