离子束增强沉积和磁控溅射硫化钼薄膜的摩擦磨损性能研究

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	离子束增强沉积和磁控溅射硫化钼薄膜的摩擦磨损性能研究
	杨生荣
刊名	摩擦学学报
	1995
卷号	15 期号:4 页码:341-347
关键词	离子束增强沉积磁控溅射 MoS2薄膜减摩性耐磨性 ion beam enhanced deposition magnetron sputtering MoS2 thin film friction reduction wear-resistance
ISSN号	1004-0595
通讯作者	庄大明
中文摘要	在离子束增强沉积的Si₃N₄膜和TiN膜的表面，分别利用离子束增强沉积法和磁控溅射法制取了MoS_x薄膜．在SRV摩擦磨损试验机上，对几种薄膜试样与52100钢试样作了对比试验研究，结果表明，两种MoS_x薄膜都具有良好的摩擦磨损性能．其中，磁控溅射MoS_x膜的减摩性能更好，而减摩持久性则是以离子束增强沉积MoS_x膜的更好；两种MoS_x膜的耐磨性比Si₃N₄膜和TiN膜的高3-4倍，比52100钢的高8-20倍．两种MoS_x薄膜显示出不同的减摩性能和耐磨寿命，主要原因在于MoS_x溅射膜中的x值(x＜2)不同，以及膜的微观结构和界面成分的混合状态不同．
学科主题	材料科学与物理化学
资助信息	国家自然科学基金资助项目
语种	中文
公开日期	2015-07-09
内容类型	期刊论文
源URL	[http://210.77.64.217/handle/362003/7387]
专题	兰州化学物理研究所_非现建制
推荐引用方式 GB/T 7714	杨生荣. 离子束增强沉积和磁控溅射硫化钼薄膜的摩擦磨损性能研究[J]. 摩擦学学报,1995,15(4):341-347.
APA	杨生荣.(1995).离子束增强沉积和磁控溅射硫化钼薄膜的摩擦磨损性能研究.摩擦学学报,15(4),341-347.
MLA	杨生荣."离子束增强沉积和磁控溅射硫化钼薄膜的摩擦磨损性能研究".摩擦学学报 15.4(1995):341-347.