绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统

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	绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统
	刘华 ; 卢振武 ; 熊峥 ; 王尧 ; 王鹤 ; 黄剑波 ; 谭向全 ; 孙强
刊名	光学精密工程
	2014-07-14
期号	7 页码:1814-1819
关键词	绝对式光栅尺光栅码道母尺刻划数字微镜器件曝光头计量光栅
中文摘要	提出了基于数字微镜器件(DMD)的双曝光头总体结构,该结构可同时刻划母尺的周期和非周期两个光栅码道。单曝光头包含曝光光源、调焦光源、DMD和投影镜头四部分,曝光光源由激光器、准直镜组、二维微透镜阵列和场镜组成。本文利用光学软件TracePro设计该光源,实现了能量的平顶分布,在14mm×10mm的照明面上均匀性达到95%以上。利用光学软件Zemax设计了工作在双波段(曝光光源0.403～0.407μm和调焦光源0.525～0.535μm)的共焦投影镜头,采用了二向色镜和分光棱镜使其能在曝光的同时进行实时调焦,优化后的系统在曝光波段和调焦波段均达到衍射极限,最大畸变为0.009%。与传统的光栅尺刻划技术对比,设计的曝光系统具有工艺简单、制作速度快、精度高等优势,可用于长、超长计量光栅的制作。
语种	中文
公开日期	2015-05-27
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/42927]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	刘华,卢振武,熊峥,等. 绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统[J]. 光学精密工程,2014(7):1814-1819.
APA	刘华.,卢振武.,熊峥.,王尧.,王鹤.,...&孙强.(2014).绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统.光学精密工程(7),1814-1819.
MLA	刘华,et al."绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统".光学精密工程 .7(2014):1814-1819.