低温外延生长平整ZnO薄膜

	低温外延生长平整ZnO薄膜
	王双鹏
刊名	发光学报
	2014
期号	5 页码:542-547
关键词	ZnO 分子束外延生长温度平整表面
中文摘要	在较低温度下实现平整ZnO薄膜的生长有利于ZnO的可控p型掺杂以及获得陡峭异质界面。本文使用分子束外延方法,采用a面蓝宝石为衬底,在450℃下生长了一系列ZnO薄膜样品。在富氧生长的条件下,固定氧流量不变,通过调节锌源温度来改变锌束流,以此调控生长速率。样品的生长速率为40～100 nm/h。通过扫描电镜(SEM)表征发现:在高锌束流的生长条件下,样品表面有很多不规则的颗粒;降低锌的供应量后,样品表面逐渐平整。原子力显微镜(AFM)测试结果表明:样品的均方根表面粗糙度(RMS)只有0.238 nm,接近于原子级平整度。这种平整表面的获得得℃于较低的生长速率,以及ZnO外延薄膜与a面蓝宝石衬底之间小的晶格失配。
语种	中文
公开日期	2015-05-27
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/42667]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	王双鹏. 低温外延生长平整ZnO薄膜[J]. 发光学报,2014(5):542-547.
APA	王双鹏.(2014).低温外延生长平整ZnO薄膜.发光学报(5),542-547.
MLA	王双鹏."低温外延生长平整ZnO薄膜".发光学报 .5(2014):542-547.